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Laurell匀胶显影机EDC产于美国,是原装的湿法刻蚀设备美国Laurell,Inc总部位于美国宾夕法尼亚,成立于1985年,是一家专业提供化工半导体材料清洁...
SCS112型是一款高效率手动型的湿法显影掩膜版清洗系统,专门设计用于在划片或划片后清洗晶片,针对8英寸晶圆片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圆和基材...
UltraT进口湿法刻蚀和剥离系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。这款高效的蚀刻和清洁系统CESx124、126、128或133是...
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